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半导体制造八大基本工艺

发布日期:2023-06-21 发布者:合明科技 浏览次数:10327

半导体制造八大基本工艺

今天小编给大家分享一篇关于半导体制造的八大基本工艺,希望能对您有所帮助!

半导体制造的八大基本工艺:

一、晶圆制造

晶圆制造.jpg

二、保护晶圆表面的氧化工艺

晶圆表面氧化.jpg

三、在晶圆上绘制电路的光刻工艺

晶圆光刻.jpg

四、半导体电路图形的完成-“刻蚀工艺”

半导体刻蚀.jpg

五、沉积和离子注入工艺使半导体具有电特性

半导体沉积.jpg

六、连接电路的金属布线工艺

半导体布线工艺.jpg

七、EDS工艺,为了成就“完美”的半导体而进行的首次测试

半导体测试.jpg

八、组装和包装工艺

半导体清洗剂.jpg

以上是关于半导体制造八大基本工艺的相关内容了,希望能对您有所帮助!

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